Akár két évvel előbb bevethető lesz a következő generációs litográfia és a 450 milliméteres szilíciumostyák kombinációja, köszönhetően az Intel és az ASML együttműködésének - jelentette be a két gyártó. Az együttműködést pénzügyi segítséggel és részesedés megszerzésével pecsételte meg az Intel, kizárólagosságról azonban egyelőre nincs szó.
Forrás:
HWSW
RSS tartalom,
A cikket automatikus RSS rendszer küldte be, amely egy híroldal összes cikkét posztolja a Propeller.hu oldalára. A más híroldalak által feltöltött tartalmak nem feltétlenül tükrözik a szerkesztőség álláspontját, ezek valóságtartalmát nem áll módunkban ellenőrizni.
Új hozzászólás